芯片一直是中國的技術(shù)短板，但只能說是這幾年的短板了，這一次國家隊出手，入局光刻機!抱著必勝的信念。

或許是因為華為的原因，人們逐漸開始關(guān)注到芯片這個不經(jīng)常見到的小東西，同時也開始了解到，芯片能夠被應(yīng)用到各種終端的電子產(chǎn)品上，是經(jīng)過了很多復(fù)雜的過程，僅生產(chǎn)制造一個環(huán)節(jié)，就足以令我們眼花繚亂。

然而隨著人們認知程度的提高，也已經(jīng)知道，芯片生產(chǎn)制造中，一個關(guān)鍵環(huán)節(jié)就是光刻環(huán)節(jié)，其中就涉及到了關(guān)鍵設(shè)備光刻機，這或許就是大部分人能夠了解到的最多情況。

我們知道，近日中科院正式宣布了，要開始進入光刻機領(lǐng)域，做到在國際上占有一席之地，既然確定了這樣的目標(biāo)，那么所要研發(fā)的光刻機，就應(yīng)該是EUV光刻機。

很多人可能還不了解，目前光刻機主要是分為EUV光刻機和DUV光刻機，前者采用極紫外光刻技術(shù)，后者采用深紫外光刻技術(shù)，EUV是已經(jīng)被確定的，用于制造先進工藝芯片的光刻機發(fā)展方向。

就在近日，中科院長春光機所宣布，長春光機所作為依托單位獲批建設(shè)“中國科學(xué)院精密光電制造技術(shù)工程實驗室”。

然而這里的實驗室并非我們常規(guī)理解的實驗室，也并不代表著對某些技術(shù)研發(fā)的開始，事實上正相反，是推進相關(guān)領(lǐng)域科技成果轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)化的平臺。

很顯然，中科院長春光機所將成為中科院發(fā)展光刻機的幕后英雄，事實上，長春光機所早在20年前就開始了對EUV技術(shù)的探索。

自上世紀90年代起，長春光機所就開始專注于EUV/X射線成像技術(shù)研究，著重開展了EUV光源、EUV多層膜及相關(guān)EUV成像技術(shù)研究，形成了極紫外光學(xué)的應(yīng)用技術(shù)基礎(chǔ)。

可以說這個時間與國際上開始對EUV技術(shù)的研究時間處在相同的水平，在之后的2002年，長春光機所就已經(jīng)研制出國內(nèi)第一套EUV光刻原理裝置，實現(xiàn)了EUV光刻的原理性貫通。

然而就在三年前，長春光機所承擔(dān)的國家科技重大專項項目，“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”順利通過驗收。

中科院微電子研究所所長葉甜春表示，長春光機所光刻機隊伍是承擔(dān)最核心、最高端、最艱苦任務(wù)的隊伍，也是專項團隊中最有戰(zhàn)斗力、最能抗壓、最值得信任的主力部隊。

就在當(dāng)時，我國科技部原副部長曹健林，作為國內(nèi)熟悉EUV光刻的領(lǐng)域?qū)＜抑?，其表示?0年前的“中國光刻夢”正在逐步變?yōu)楝F(xiàn)實。

所以我們看到，中科院雖然是剛剛才如此正式的宣布要攻破光刻機，但對光刻機的布局其實已經(jīng)有了近三十年的歷史，這就像之前任正非所說的：我們有準備，不是說說而已。

可以說，這句話用在中科院身上非常合適，我們不是說說而已，而是有著充足的準備。

而且想必也已經(jīng)有朋友了解到，在今年的七月份，中科院蘇州納米所，推出了一種新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

所以整體來看，中科院在光刻機，尤其是目前最先進的EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域，有著二十多年的技術(shù)積累，目前已經(jīng)開始走向成果轉(zhuǎn)化，用中科院白院長的話說，就是解決一批“卡脖子”的問題。

當(dāng)然，極紫外光刻技術(shù)難度如此之外，長春光機所是“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項目的牽頭單位，成員單位還包括像北京理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、華中科技大學(xué)這樣的大學(xué)機構(gòu)。

可以說，他們都是我國實現(xiàn)EUV光刻機偉大理想的幕后英雄，也可以說，我們對中科院對光刻機的攻堅充滿了信心，相信這一天的到來不會遠了，我們拭目以待。

在大多數(shù)人的想法里，這一次國家隊都出手了，事情應(yīng)該是妥妥沒有問題了，相信不用多久，也許就這么兩三年我么就能收到成功的消息。